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AndTechが半導体レジスト・リソグラフィ入門講座をウェビナーで開催、最新技術動向と課題解決に焦点

text: XEXEQ編集部
(記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります)

AndTechが半導体レジスト・リソグラフィ入門講座をウェビナーで開催、最新技術動向と課題解決に焦点

PR TIMES より


記事の要約

  • AndTechが半導体レジスト・リソグラフィ入門講座を開講
  • 鴨志田洋一氏が講師として登壇予定
  • 化学増幅型レジストシステムの開発などを解説

AndTechが半導体レジスト・リソグラフィ入門講座を開催

株式会社AndTechは、R&D開発支援向けZoom講座の一環として、半導体レジスト・リソグラフィに関する入門講座を2024年9月9日に開講すると発表した。本講座では、鴨志田技術事務所代表の鴨志田洋一氏が講師を務め、黎明期のフォトレジスト開発からフォトリソグラフィの確立までの過程を詳しく解説する予定だ。[1]

講座内容は、レジスト材料の開発を中心に創出された多くのイノベーションについて解説し、特にエキシマレーザを光源とした化学増幅型レジストシステムの開発とエキシマレーザリソグラフィの展開に焦点を当てる。さらに、EUVリソグラフィの現状や今後の課題解決に向けた取り組みについても議論が行われる予定だ。

本講座は、半導体産業の根幹技術であるリソグラフィと半導体レジストについて学ぶ機会を提供する。参加者は、半導体技術の発展過程や最新の技術動向、さらには半導体産業が果たす社会的役割についても理解を深めることができるだろう。これにより、半導体レジスト・リソグラフィ分野での課題解決能力の向上が期待される。

セミナーの概要情報

セミナー名 半導体レジスト・リソグラフィ入門講座
日程 2024/09/09(月) 10:30-16:30
会場 -
会場住所 -
概要 黎明期のフォトレジスト開発からフォトリソグラフィの確立までレジスト材料の開発を中心に、創出された多くのイノベーションについて、エキシマレーザを光源とした化学増幅型レジストシステムの開発とエキシマレーザリソグラフィの展開を詳しく解説
主催 株式会社AndTech
備考 参加費:49,500円(税込)
電子にて資料配布予定
WEB配信形式:Zoom(お申し込み後、URLを送付)
セミナーの詳細はこちら

化学増幅型レジストについて

化学増幅型レジストとは、半導体製造プロセスにおいて使用される感光性材料の一種であり、主な特徴として以下のような点が挙げられる。

  • 高感度で微細なパターン形成が可能
  • エキシマレーザなどの短波長光源に対応
  • 少量の光で効率的に化学反応を引き起こす

化学増幅型レジストは、エキシマレーザリソグラフィの発展に大きく貢献した技術である。本セミナーでは、鴨志田洋一氏が化学増幅型レジストシステムの開発過程やエキシマレーザリソグラフィへの展開について詳細に解説する予定だ。これにより、参加者は半導体製造技術の進化と、それを支える材料技術の重要性について深い理解を得ることができるだろう。

参考サイト

  1. ^ PR TIMES. 「09月09日(月) AndTech WEBオンライン「半導体レジスト・リソグラフィ入門講座」Zoomセミナー講座を開講予定 | 株式会社AndTechのプレスリリース」. https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000853.000080053.html, (参照 24-08-31).

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