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公開：2024-12-22

メルクが静岡事業所に先端材料開発センターを新設、半導体パターニング材料の開発力強化へ

text: XEXEQ編集部
（記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります）

記事の要約

• メルクが静岡事業所に先端材料開発センターを新設
• 7,000万ユーロ超を投資し半導体パターニング材料を開発
• 2026年運営開始で研究開発機能を強化

メルクの静岡事業所における先端材料開発センター新設

メルクは2024年12月20日、静岡事業所に先端材料開発センター（Advanced Materials Development Center: AMDC）を建設することを発表した。7,000万ユーロ超（約100億円）を投資し、半導体製造のパターニングプロセス向け材料開発力を強化することで、半導体技術の発展と世界のエレクトロニクス産業の成長支援に向けた取り組みを加速するのだ。^[1]

2026年に運営を開始するAMDCは、面積5,500平方メートルの施設に最先端のクリーンルームと高度な研究設備を完備し、進展著しい半導体業界のニーズに柔軟かつ迅速に対応することが可能となる。さらに半導体製造の重要な工程であるパターニングプロセス向けの材料開発力を強化することで、半導体技術の発展を実現するだろう。

メルクは2021年より日本国内の半導体材料拠点の強化を継続的に実施しており、総額1億2,000万ユーロを超える規模の投資を行っている。この新設により、EUV材料やDSAなどの最先端ソリューションに注力し、AI半導体や先端ノードを含む次世代アプリケーションの需要に応える体制が整うことになった。

先端材料開発センターの概要

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パターニングプロセスについて

パターニングプロセスとは、半導体製造工程において回路パターンを形成する重要な工程のことを指す。主な特徴として、以下のような点が挙げられる。

• 半導体チップの微細化を実現する基盤技術
• 最先端の半導体製造に不可欠な工程
• 高度な材料開発と精密な制御が必要

メルクの先端材料開発センターでは、EUV材料やDSAなどの最先端のパターニング材料技術の開発に注力している。半導体の微細化と高性能化が進む中で、AI半導体や先端ノードなどの次世代アプリケーションに向けた材料開発がさらに重要性を増している。

先端材料開発センター新設に関する考察

メルクの先端材料開発センター新設は、日本の半導体産業の競争力強化という観点で重要な意味を持っている。特に半導体の微細化が進む中で、パターニング材料の開発力強化は不可欠であり、研究開発施設の新設によって革新的な材料開発が加速することが期待できるだろう。

一方で、半導体材料の開発には高度な技術力と長期的な研究投資が必要となるため、人材確保と継続的な投資が課題となる可能性がある。しかし、メルクが日本の半導体産業を重要視し、大規模な投資を行うことで、グローバル市場での競争力強化につながることが見込まれるだろう。

また、AI技術の発展に伴う半導体需要の増加により、高性能な半導体材料の重要性は今後さらに高まることが予想される。メルクの先端材料開発センターは、こうした市場ニーズに応える研究開発拠点として、半導体産業の発展に大きく貢献することが期待できる。

参考サイト

1. ^ PR TIMES. 「メルク、静岡事業所に半導体パターニング材料開発の先端材料開発センターを新設 | メルクエレクトロニクス株式会社のプレスリリース」. https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000017.000077627.html, (参照 24-12-22).

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