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STマイクロエレクトロニクスが次世代光インターコネクト技術を発表、データセンターの高性能化とAI処理の効率向上に貢献

text: XEXEQ編集部
(記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります)

STマイクロエレクトロニクスが次世代光インターコネクト技術を発表、データセンターの高性能化とAI処理の効率向上に貢献

PR TIMES より


記事の要約

  • STがデータセンター向け次世代光インターコネクト技術を発表
  • 新シリコンフォトニクスとBiCMOS技術で800Gb/s・1.6Tb/s実現へ
  • 2025年後半から量産開始予定で電力効率向上に貢献

STの次世代光インターコネクト技術がデータセンターの性能向上を実現

STマイクロエレクトロニクスは、データセンターとAIクラスタ向けの次世代光インターコネクト技術を2025年2月28日に発表した。新しいシリコンフォトニクス技術と次世代BiCMOS技術の組み合わせにより、複数の複雑な部品を1チップに統合し、ハイパースケーラと大手光モジュールメーカーの課題解決に貢献することが可能になる。[1]

データセンターのインターコネクトの中核となる光トランシーバは、数千から数十万もの規模で導入され、光信号と電気信号の相互変換によってGPU、スイッチ、ストレージ間のデータフローを実現している。新技術の導入により、AIコンピューティング需要の急増に対応した超高速・低消費電力の光通信が実現可能になるだろう。

両技術はヨーロッパの300mm製造プロセスで生産され、2025年後半から800Gb/sおよび1.6Tb/s光モジュール向けの量産が開始される予定だ。STはこの技術をプラガブルオプティクスやオプティカルI/Oに展開し、データセンターとAIクラスタ市場におけるシリコンフォトニクスとBiCMOSウェハの主要サプライヤを目指している。

次世代光インターコネクト技術の特徴まとめ

項目 詳細
発表日 2025年2月28日
量産開始予定 2025年後半
対応速度 800Gb/sおよび1.6Tb/s
主要技術 シリコンフォトニクス技術、次世代BiCMOS技術
製造プロセス ヨーロッパの300mm製造プロセス
主な利点 複数部品の1チップ統合、超高速・低消費電力の実現

シリコンフォトニクスについて

シリコンフォトニクスとは、光信号処理をシリコン基板上で実現する技術であり、主な特徴として以下のような点が挙げられる。

  • シリコン基板上での光回路集積が可能
  • 電気信号と光信号の高効率な変換を実現
  • 大規模集積による低コスト化と小型化を実現

シリコンフォトニクス技術は、データセンターにおける光トランシーバの中核技術として注目を集めている。LightCounting社の予測によると、シリコンフォトニクスモジュレータをベースとしたトランシーバの市場シェアは2024年の30%から2030年には60%まで成長する見込みだ。

参考サイト

  1. ^ PR TIMES. 「STマイクロエレクトロニクス、データセンター/AIクラスタ向けにクラウド用の高性能な光インターコネクト技術を発表 | STマイクロエレクトロニクスのプレスリリース」. https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000001436.000001337.html, (参照 25-03-03).

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