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公開：2024-12-06

ジェイテクトサーモシステムがSiCパワー半導体用熱処理装置を開発、プロセスチャンバ2台搭載で生産性が2倍以上に向上

text: XEXEQ編集部
（記事は執筆時の情報に基づいており、現在では異なる場合があります）

記事の要約

• ジェイテクトサーモシステムがSiCパワー半導体用熱処理装置を開発
• コンタクトアニールシステムRLA-4200-Vで生産性が2倍以上に向上
• SEMICON Japan 2024で新機種を初出展予定

ジェイテクトサーモシステムのSiCパワー半導体用熱処理装置RLA-4200-V

株式会社ジェイテクトサーモシステムは、SiCパワー半導体の製造工程で使用されるコンタクトアニールおよび活性化アニール向けの新機種を2024年12月5日に発表した。新機種のコンタクトアニールシステムRLA-4200-Vは従来機種と比較して生産性が2～2.4倍に向上し、本体設置面積も24%削減されている。^[1]

ジェイテクトサーモシステムはこれまでコンタクトアニールシステムRLA-4100-VおよびRLA-3100-Vを製造販売してきたが、ウエハーを1枚ずつ処理する枚葉式であったため生産性に課題があった。新機種のRLA-4200-Vではプロセスチャンバを2台搭載することで熱処理性能を大幅に向上させた。

新機種は2024年12月11日から13日まで東京ビッグサイトで開催されるSEMICON Japan 2024に出展される。展示会では生産性を高めた熱処理装置がSiCパワー半導体製造のソリューションとして提案される予定だ。

RLA-4200-Vの特徴まとめ

アニールについて

アニールとは、半導体製造工程において材料に熱処理を施すことで、物質の性質や構造を改善する工程のことを指す。主な特徴として以下のような点が挙げられる。

• 材料の結晶構造を最適化し電気特性を向上
• 不純物の活性化や欠陥修復に効果的
• 半導体デバイスの性能と信頼性に直結する重要工程

SiCパワー半導体の製造においてアニール工程は特に重要で、コンタクトアニールは電極形成時の接触抵抗を低減させる役割を持つ。活性化アニールは不純物を結晶構造に取り込み電気的に活性化させる工程であり、デバイスの性能を最大限に引き出すために不可欠な技術だ。

SiCパワー半導体用熱処理装置の開発に関する考察

RLA-4200-Vの開発により生産効率が大幅に向上したことは、SiCパワー半導体の量産化に向けた重要な一歩となるだろう。特にプロセスチャンバの2台搭載による処理能力の向上は、製造コストの削減と生産リードタイムの短縮に大きく貢献することが期待される。

今後の課題として、さらなる処理温度の最適化や均一性の向上が求められる可能性がある。半導体の微細化や高性能化が進む中、熱処理工程の精密制御はますます重要になってきており、温度分布の均一性や冷却速度の制御性能の向上が必要になってくるだろう。

将来的には、AIやIoT技術を活用した製造プロセスの自動最適化や予知保全機能の実装が期待される。装置の稼働状況や処理結果のデータを活用することで、さらなる生産性向上とプロセス品質の安定化が実現できるはずだ。

参考サイト

1. ^ PR TIMES. 「ジェイテクトグループ会社、ジェイテクトサーモシステム　SiCパワー半導体用熱処理装置の新機種を開発 | 株式会社 ジェイテクトのプレスリリース」. https://prtimes.jp/main/html/rd/p/000000470.000028729.html, (参照 24-12-06).

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